勻膠旋涂儀,Ossila非真空旋涂機國內總代理現貨發(fā)售

勻膠旋涂儀產品介紹

許多年來,英國Ossila公司旋涂機一直以高質量的涂布效果而著稱。Ossila公司根據眾多客戶反饋，結合公司內部強大的研發(fā)力量推出一種全新的旋涂機，大大提高了產品的可用性和效率。新型旋涂機更小巧、重量更輕,不需真空泵或氮氣管線，機讀方便,更適合在手套箱和通風櫥內使用。

大英物理學會獲獎項目-Ossila太陽能電池原型設計平臺中， Ossila旋涂機提供了理想的旋轉涂布解決方案,很大程度上減輕了科研人員工作量，并大幅節(jié)省了實驗室空間。旋轉涂布是一種應用廣泛的通用技術，可將材料沉積到基片上，并能準確控制薄膜厚度。

Ossila旋涂機形體小巧,價格經濟,不需維護，優(yōu)化手套箱內或工作臺空間，性能和功能絲毫不打折扣，讓每個科研人員都在其研究領域中獲得高質量的旋涂效果。Ossila旋涂機是非真空式設計，減少基片翹曲問題，提升膜片涂布質量。Ossila旋涂機不需真空泵或氮氣管路，是真正即插即用式旋轉涂布機，避免了真空泵和氮氣管路帶來的維護問題。

Ossila旋涂機可與注射泵配套使用。價格經濟，標配包括一個旋涂卡盤，下訂單時需注明所需卡盤類型。Ossila可根據客方需求定制卡盤。

Ossila旋涂機有2年真空質保。

勻膠旋涂儀性能優(yōu)勢

為什么要選擇非真空旋涂機?

市場上大多數旋涂機進行旋轉涂布的時候都通過真空方法固定基片。Ossila旋涂機則與眾不同，它使用創(chuàng)新型卡盤，不需真空固定即可進行旋轉涂。基片通過聚丙烯卡盤上的凹口固定到位，這種設計同時也可以讓多余的涂層材料排出，保證良好涂布效果。 

Ossila旋涂機卡盤不需真空即可將基片固定到位，非常安全。Ossila公司可根據客戶需求定制任意形狀的卡盤，以進行各種形狀基片的涂布，從而滿足客戶的使用需求。 

真空卡盤的缺點是基片容易向上翹曲，影響涂布均一性。低均一性會降低基片品質，并影響機讀效果。Ossila公司非真空旋涂機卡盤可以保證基片平直不受損壞，即便靈敏度非常高的基片涂布也能避免基片受損，保持高度平直性，從而涂布效果的均一性。

與普通旋涂機相比,Ossila旋涂機的非真空式涂布保證了膜片分布的高均一性。

左：普通旋涂機上有真空密封環(huán)形印跡     右：Ossila非真空式旋涂效果

真空式旋涂機只能在有真空管路的環(huán)境中使用，因為真空泵的存在，一旦放置后不易移動，靈活性差，尤其是不工作的時候也占用實驗室空間。Ossila旋涂機不需真空泵，只需一個電源插座，即插即用，可以在工作臺上使用，也可以放置于通風櫥內或手套箱內使用，尺寸小巧，設置簡便，機動性非常強。

大多數旋涂機價格并不包括真空泵，無形中增大了采購成本。另外，真空泵容易壞，增加了客戶的后期維護成本及誤工成本。真空泵的故障主要由過量溶劑被吸入真空管道導致內部組件受損引起。Ossila旋涂機不使用真空泵，大大減少了短期和長期的維護成本。

勻膠旋涂儀功能特征

· 節(jié)省空間的設計-占地面積只有22.5×17厘米,節(jié)省實驗室空間。Ossila旋涂機形體小巧，移動方便，無論你想放置在通風櫥里還是手套箱里，還是想放在實驗臺上，一切隨心所欲。

· 安裝簡單-沒有真空或氮氣管線,只需把旋涂機插到電源插座上即可開始工作，Ossila旋涂機是真正的即插即用式旋涂機。

· *掌控-轉速范圍從120到6000 rpm不等，涵蓋不同旋涂需求。Ossila旋涂機可以實現一系列不同的旋涂條件，從慢干式結晶涂布到超薄膜片的涂布，面面俱到。內置控制系統(tǒng)可以存儲10個獨立的用戶自定義程序，每個程序可以存儲10個協(xié)議，多達50個步驟。所有這一切保證Ossila旋涂機*的工作效果，使它成為眾多繁忙實驗室中的得力助手。

· 更少的變數,更好的膜片-內置水平儀和可調式腳保證平直的旋轉軸，非真空式卡盤避免了較薄膜片的翹曲現象。這兩個優(yōu)勢因素確保了膜片涂布更好的均一性，以及更好的設備性能。

· 維護成本低-真空式旋涂機的真空泵比較容易受損，操作繁瑣，維修成本高。Ossila旋涂機的活動部件少，沒有真空泵，不會因設備故障而停機，保證了客戶科研工作的順暢進行。

· 耐用–Ossila旋涂機機殼是鋼鐵材質和鋼化玻璃蓋堅固耐用，聚丙烯材質卡盤和內部件具有良好的耐腐蝕性，可以適用各種實驗室工作環(huán)境。

· 安全–Ossila旋涂機電源是24 V DC，不需高壓電，對電源沒有其它特殊要求。防濺設計避免溶液濺灑或傾覆，安全系數高。電磁安全開關提供雙重保護，旋涂機上蓋打開，卡盤立即停止轉動。

溶劑安全性—清晰直觀的鍵區(qū)，帶有保護性氟化乙丙烯膜，耐化學腐蝕，安全系數高。

Ossila旋涂機有內置水平儀，臺腳高度可調，確保了涂布的水平性和均一性。

使用普通旋涂機在進行微小基片或異形基片的旋涂時，很難達到理想效果。Ossila旋涂機*地解決了這些問題!

高靈敏性基片涂布是科研人員經常遇到的比較頭疼的問題。普通旋涂機因為真空會導致較薄基片翹曲，故很難達到均一平直的涂布效果。Ossila旋涂機采用非真空式卡盤設計理念，可以在高轉速條件下保證較薄基片的平直均一性且不受損壞，是高靈敏性基片涂布的理想之選，如有機發(fā)光二極管或太陽能光伏生產中使用的PET基片涂布。

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